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  • MODEL 1404NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍
    NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍

    NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍ION GUNS: MODEL 1404 支持所有惰性氣體外加氮?dú)?，可選氧氣功能，帶Thoria涂層燈絲

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：MODEL 1404訪問(wèn)量：701
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  • MODEL 1401NONSEQUITUR 離子源離子槍
    NONSEQUITUR 離子源離子槍

    NONSEQUITUR 離子源離子槍 ION GUNS: MODEL 1401 5EV – 5KEV 氣相離子源 Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學(xué)實(shí)驗(yàn)，例如使用Auger 和ESCA進(jìn)行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：MODEL 1401訪問(wèn)量：600
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  • MODEL 1407NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源
    NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源

    NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調(diào)節(jié)

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：MODEL 1407訪問(wèn)量：608
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  • MODEL 145050KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源
    50KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源

    50KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源配備雙燈絲可集成濾波器MODEL 1450，具有可調(diào)光斑尺寸≥5 μm，用于空間定義的濺射或注入發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：MODEL 1450訪問(wèn)量：628
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  • UHV美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 多探針?lè)治鱿到y(tǒng)
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 多探針?lè)治鱿到y(tǒng)

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 多探針?lè)治鱿到y(tǒng)：UHV 除了表面分析組件外，LK Technologies還專門設(shè)計(jì)和構(gòu)建完整的特高壓系統(tǒng)，這些系統(tǒng)通常結(jié)合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：UHV訪問(wèn)量：728
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  • TDS1000美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀TDS1000 我們的TDS1000是一個(gè)集成的系統(tǒng)工具，使用戶能夠以高靈敏度和定量校準(zhǔn)獲得TPD光譜。

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：TDS1000訪問(wèn)量：720
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  • LK1000M美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源，針對(duì)高輸出電流進(jìn)行了優(yōu)化應(yīng)用于逆UPS，EELS等電子碰撞實(shí)驗(yàn)。

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：LK1000M訪問(wèn)量：755
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  • MINICMA™美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀MINICMA™ 對(duì)固體表面進(jìn)行微區(qū)成份分析及元素分布?？蓱?yīng)用于半導(dǎo)體材料、冶金、地質(zhì)等部門。

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：MINICMA™訪問(wèn)量：582
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